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A Nano-crystalline silicon film which was deposited by LPCVD in this paper was joined with crystal silicon by CMOS planar process as a nano-crystalline silicon/crystal silicon homo-type heterojunction diode.
本文在采用LPCVD方法淀积制得纳米硅薄膜的基础上,通过CMOS平面工艺将纳米硅薄膜与单晶硅衬底制成平面型纳米硅/单晶硅同型异质结二极管。
参考来源 - 纳米硅/单晶硅异质结二极管制作及特性研究·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
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