传统透明导电膜采用氧化铟锡(ITO),但是王钢教授指出可以利用MOCVD生长技术生长单晶纳米柱状结构ZnO透明导电薄膜(GZO)材料,他认为氧化锌(ZnO)作为新型的透明电极材料透过率可到95%,p型欧姆接触可达10-3,与ITO相当;而且化学稳定性比ITO好,热导...
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透明导电镓掺杂氧化锌(GZO)薄膜沉积到玻璃基板上用磁控溅射技术。通过各种方法,以了解其微观结构,光学和电学特性的薄膜进行了表征。
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掺杂了镓的氧化锌(GZO)的半导体薄膜,通过旋涂过程中的溶胶 - 凝胶制备。 Ga的掺杂浓度的微观结构,电阻率,光学性能和光致发光(PL)的影响进行了研究...
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