他们还采用三阴极真空等离子弧沉积(VAD)和过滤真空弧沉积(FVAD)这2种方法在聚砜表面沉积Ti、Zr、Cu、Ti/TiN和Ti/ZrN薄膜,并分析了薄膜的结构、成分、结合力及摩擦学性能,发现薄膜的典型结构为...
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ZnO薄膜,100-250纳米厚,沉积在显微镜载玻片和UV熔融二氧化硅(UVFS)的基板使用的过滤的真空电弧的沉积(FVAD)系统,在室温(RT)和200 A 60秒。
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