(2)固定氧化层电荷(Fixed Oxide Charge): 形成原因:离 Si-SiO 2 界面不远处,且在 Si 与 SiO 2 的 Transition Region 内。 主要是因为制程控制所产生的。
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equivalent fixed oxide charge 等效固定氧化层电荷
fixed oxide positive charge 氧化层正固定电荷
Step Buried Oxide fixed Charge 埋氧层固定电荷结构
buried oxide fixed charge 埋氧层固定电荷
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