用磁过滤阴极真空弧沉积(FCVAD)方法在Si衬底上合成了Ta-C薄膜,Raman光谱和光电子能谱(XPS)分析表明衬底加80～100V负偏压时合成的Ta-C薄膜sp3键所占比例最高,可达...
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磁过滤阴极真空弧沉积技术（FCVAD）是一种广泛应用于精密薄膜的薄膜制备方法，相比于其他薄膜制备方法具有成膜粒子均匀、沉积能量高等诸多优势，制备的薄膜具有薄膜...
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