互连工艺中第一次采用CMP是在Al互连中的钨塞（W Plug）的平坦化工艺中。主要原因是采用非选择性的WCVD工艺能够有效填充互连金属层之间的导通孔（Via）,并具有良好的一致性。
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W-plug 栓塞
W PLUG HSG ASSY BLACK 产品描述
w plug
w插头
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