使冶金级硅中难以提纯的B、P杂质降低到了一个理想的数值。 2.5汽- 液沉积法 汽-液沉积法或蒸汽-液体沉积法（vapor to liquid deposition，VLD）是全球第二大多晶硅制造商日本德山公司（Tokuyama）于1999年至2005年间开发出的具有专利权
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4.2气液沉积法 气液沉积法（Vapor to Liquid Deposition，VLD）是日本德山公司（Tokuyama）于1999年至2005年间开发出的具有专利权的SOG硅制备技术。
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使冶金级硅中难以提纯的B、P杂质降低到了一个理想的数值。 2.5汽- 液沉积法 汽-液沉积法或蒸汽-液体沉积法（vapor to liquid deposition，VLD）是全球第二大多晶硅制造商日本德山公司（Tokuyama）于1999年至2005年间开发出的具有专利权
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使冶金级硅中难以提纯的B、P杂质降低到了一个理想的数值。 2.5汽- 液沉积法 汽-液沉积法或蒸汽-液体沉积法（vapor to liquid deposition，VLD）是全球第二大多晶硅制造商日本德山公司（Tokuyama）于1999年至2005年间开发出的具有专利权
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