靶材利用率
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usage of target material
目标材料的使用
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This revolving target improved on the usage of target material and uniformity of film thickness comparing with conventional cylindric magnetron sputtering target.
与常规的圆柱形磁控溅射靶相比较，该旋转式靶提高了靶材利用率和膜厚均匀度。
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