...抛光在整个装置流程起了以下2个重要关键和可行性：1，第一个栅极（first gate）的构思和形成；2，超薄的渠道(ultra-thin channel)的形成。这两者对于装置功能都是至关重要。
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But it will do so on conventional, cheap silicon wafers without the need for the modified wafers or ultra-thin channels required by the SOI consortium, a trick it accomplishes by adding a second gate beneath the channel.
ECONOMIST: Transistors
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