template-assisted selective epitaxy
IBM此次开发的技术名为“模板辅助选择性外延”（Template-Assisted Selective Epitaxy，TASE”，是像嫁接一样在SOI（silicon-on-insulator，绝缘体上硅片）基板上形成的硅纳米线（NW）上形成III-V族化合物半导体NW的技...
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template-assisted selective epitaxy
模板辅助选择性外延
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