self aligned double patterning
为了克服最小特征尺寸的挑战，三星自行研发的自我对准／重复曝光两次(SADP, Self Aligned Double Patterning)的技术，让原本用于40nm的微影设备，可延用到30nm。
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为了克服最小特征尺寸的挑战，三星自行研发的自我对准／重复曝光两次(SADP, Self Aligned Double Patterning)的技术，让原本用于40nm的微影设备，可延用到30nm。
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self aligned double patterning
自对齐双图案
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