目前流行的典型设备为 反应离子刻蚀 （ RIE-Reactive Ion Etch ）系统。它已被广泛应用于微处理器（CPU）、存储（DRAM）和各种逻辑电路的制造中。
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Reactive Ion Etch-RIE 平行电极刻蚀反应室
rie-reactive ion etch
锂反应离子蚀刻
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