射频等离子体辅助真空沉积的
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rf plasma chemical vapor deposition
射频等离子体化学气相沉积
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Silicon nitride thin films were prepared onto steel substrates by radio-frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (RF-PECVD) technique.
采用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF - PECVD)在钢衬底上沉积氮化硅薄膜。
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