美国Polyset Company的材料学专家也参与了此次研发，这种称为环氧硅氧烷聚酯树脂（polyset epoxy siloxane，PES）的新结构能改善半导体商用光刻工艺的性能，并便于向纳米压印光刻技术转移。
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polyset epoxy siloxane
聚集环氧硅氧烷
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