图形转移(pattern transfer)是微电子工艺的重要基础，其作 用是使器件和电路的设计从图纸或工作站转移到基片上得以实现， 我们可以把它看作是一个在衬底上建...
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高平坦度之矽片表面对半导体制造中图案移转制程(Pattern Transfer)具有相当关键 之影响。矽片除了须具有良好之表面特性外，其表面物质仍需与内层(Bulk)之材料物质一 致。
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optical pattern transfer 光学图样转移
Additive Pattern transfer 追加式转印
electrochemical pattern transfer 电解转印
transfer pattern 转发模式
Transfer Object Pattern 传输对象模式
2d pattern optical transfer 二维图案光传输
carbon transfer pattern 碳迁移规律
2 d pattern optical transfer 二维图案光传输
The distortion in pattern transfer may influence the functionality and performance of IC products and lower the production yield.
版图图形转移过程中的失真,将会影响最后产品的性能参数,并降低集成电路的成品率。
参考来源 - 亚波长光刻条件下集成电路可制造性设计与验证技术研究·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
Nanoimprint lithography becomes a hot focus of novel lithography technologies of next generation due to its advantages of low cost, high yield and fidelity of large area pattern transfer.
纳米压印光刻技术具有效率高、失真率低、易于实现大面积图形转移等特点，成为下一代光刻技术的研究热点。
The resolution of an etching process is a measure of the fidelity of pattern transfer.
刻蚀工艺的分辨率是图形转移保真度的量度。
The resolution of an etching process is a measure of the fidelity of pattern transfer .
刻蚀工艺的分辨率是图形转移保真度的量度。
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