• 无掩模光刻 - 引用次数：6

  Thirdly: Labouredly the mostly influence factors of maskless lithography, and give the equalize measures; labouredly the mostly error factors of this system, and give the resolvent idiographic.

  第三、详细分析了数字无掩模光刻系统中对曝光图形质量的主要影响因素,并提出了相应的补偿方法;详细分析了本论文提出的数字无掩模光刻成像系统中引入的误差因素,并分别提出了消除各个误差因素的解决方法。

  参考来源 - 基于DMD的数字无掩模光刻成像系统设计
  无掩模刻蚀 - 引用次数：4

  After comparing differences between maskless lithography and mask-based lithography, the advantages of maskless lithography are emphasized. The working principle of E-B lithography as a typical maskless lithography is worth using.

  电子束扫描刻蚀在无掩模刻蚀原理上有很多值得借鉴,所以对电子束刻蚀系统中采用的典型扫描方式进行了彻底的剖析,目的是为获得一个适合本课题的扫描方式。

  参考来源 - 一种低精度光刻扫描器的研究
  无掩膜光刻 - 引用次数：4

  As for the reality and application of maskless lithography, this paper studies the micro-actuator, defocusing sources, dynamic focusing characteristics, system hardware, system software, fabrication of rotation symmetric figure, etc.

  在无掩膜光刻系统的实现和应用方面,研究了微位移执行器、动态离焦源、调焦动态特性、系统硬件、系统软件,以及在制作旋转对称图形上的应用等等。

  参考来源 - 可变线宽的无掩膜光刻理论与技术研究
• 无掩模光刻 - 引用次数：2

  参考来源 - 激光干涉光刻技术

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