1．2．4．3激光化学气相沉积 激光化学气相沉积（Laser chemical vapourdeposition，LCVD）t55～明的原理是 选择适合的激光波长，使之能被基体吸收，而不为反应物吸收，随着激光照射点 温度的升...
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laser chemical vapourdeposition
激光化学气相沉积
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