gas discharge ion source 气体放电离子源
High-voltage glow-discharge ion source [分化] 高压辉光放电离子源
arc-discharge ion source 弧放电离子源
ion source high voltage discharge 离子源高压放电
Glow discharge ion source 辉光放电离子源
Analyze data, gain the rule of ion source discharge.
进行数据分析，得到放电规律。
The plasma source ion implantation device consists of pulsed negative high voltage power, hot cathode arc discharge system, vacuum chamber and target stage, vacuum system and monitor system.
等离子体源离子注入装置由脉冲负高压源系统、热阴极弧放电系统、真空室及样品台、真空系统和监测系统等五部分组成。
In this paper, a glow discharge plasma source ion implantation technique is described.
本文叙述了辉光放电等离子体源的等离子体源离子注入。
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