•错误引发位点（false priming site）， •引物及产物GC含量（composition），有时还要对引物进行修饰，如增加限制酶切点，引进突变等。
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...反映），形成引物二聚体（primer dimer）及发夹结构（duplex formation and hairpin）的能值，在错配位点（false priming site）的引发效率，引物及产物的GC 含量（composition），等等。必要时还需对引物进行修饰，如增加限制性内切酶位点，引进突变等。
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