... ℃,30~60秒;目的:祛除溶剂(4~7%);增强黏附性;开释光刻胶膜内的应力;防止光刻胶玷辱设备;边沿光刻胶的去除(EBR,Edge Bead Roval)。光刻胶涂覆后,在硅片边沿的正反两面城市有光刻胶的堆积。
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edge bead roval
边沿圆孔
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