...导体技术大步迈向32纳米技术节点,通常的RET和OPC已经无法满足更高技术代的要求,双重图形光刻技术(Double Patterning Lithography)、高折射率浸没式光刻技术(High Index Immersion Lithography)以及极紫外光刻技术(Extremely Ultra Violet Lithography)等光刻分...
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double patterning lithography technology 与双重图形光刻技术
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