...终将到来，但在制造上会面临更多挑战，包括阶梯覆盖(step coverage)、FIN尺寸的控制、在多个层上使用双重曝光(double patterning)，甚至需要使用四重曝光等。
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...尚未释出实际建厂进度外，晋华于2016年底开始动土，2018下半年才有机会进行试产，此外25nm需用双重曝光技术（Double Patterning）及浸润式曝光机（ArF-immersion），制程难度大幅提升，将影响实际产能开出的进度。
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Self Aligned Double Patterning 重复曝光两次 ; 自我对准
Double Patterning Technology 双重图形技术
double patterning lithography 光刻技术
double patterning lithography technology 与双重图形光刻技术
Using 193-nm with double patterning will force chip makers to use "more restrictive design rules," he said.
因为193 n m液浸式光刻技术与双重成像的结合将迫使芯片产商对芯片设计准则设置更多的限制。
All patterns in the standard cells having the second indicator are transferred to a second mask of the double patterning mask set.
以及将所述第二图案组中的图案转印到所述双图案掩模组的第二掩模。
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