在各种真空离子镀膜技术中，阴极电弧沈积(cathodic arc evaporation, CAE)技术具有高离化率、沈积速度快、可使用合金靶材等优点，近年来国内在此技术上已开发出相关系统硬体与商业化...
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vacuum cathodic arc evaporation 真空阴极弧离子镀
cathodic arc evaporation
阴极电弧蒸发
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The system include pulse cathodic arc ion deposition, direct current cathodic arc ion deposition, magnetic sputtering and electronic beam evaporation technologies.
该系统集脉冲阴极弧离子镀、直流阴极弧离子镀、磁控溅射和电子束蒸发等镀膜工艺以及气体和金属离子注入于一体。
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