原子扩散过程
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atomic diffusion process
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In process parameters, the rf power and pressure affect the number, energy and composition of the basic elements, the substrate temperature effect the surface diffusion and atomic bonding.
工艺参数中，射频功率和压强综合影响了基元数量、能量以及成分，基片温度主要影响表面扩散、原子成键。
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