amorphous indium gallium zinc oxide
...xide TFT)技术，主要是将原来使用的非晶硅(a-Si)材料部分置换成非晶铟镓锌氧化物(a-IGZO，amorphous Indium Gallium Zinc Oxide)，主要目的是作为大尺寸AMOLED用TFT基板，例如三星于2008年5月发表的以Oxide TFT为...
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amorphous indium gallium zinc oxide
非晶铟镓氧化锌
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