（4）MOCVD法 有机金属化学气相沉积法（MetalOrganic Chemical VaporDesposition，MOCVD）：是 一种利用有机金属热分解反应进行气相外延生长的方法。
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Metal-organic Chemical Vapor Deposition
...程中，会添加不同的金属，如金、铝、镍等金属，并应用有机金属化学气相沉积法(MOCVD，Metal-organic Chemical Vapor Deposition)，在基板上成长半导体薄膜的一种方法。
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