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金属化学气相沉积技术

网络释义

  Metal-organic Chemical Vapor Deposition

《半导体科技》>100英寸家用电视机继续上市移动型电视机上市指日可待 AG)成立于1983年,是化学气相沉积设备的主要制造商。公司最早由德国Aachen技术大学分立出来。基于其开发出来的有机金属化学气相沉积技术(MOCVD, metal organic chemical vapor deposition),公司已经成为全球化合物半导体和其他复合材料的领先设备制造商。 1997年Aixtron GmbH

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  MOCVD

基于其开发出来的有机金属化学气相沉积技术MOCVD, metal organic chemical vapor deposition),公司已经成为全球化合物半导体和其他复合材料的领先设备制造商。

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有道翻译

金属化学气相沉积技术

Metal chemical vapor deposition technology

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