还有奈米压印微影(Nanoimprintlithography，NIL)亦颇具潜力，甚至可微缩至10奈米制程，但主要适用微机电系统(MEMS)与光学组件。
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还有奈米压印微影(Nanoimprint lithography，NIL)亦颇具潜力，甚至可微缩至10奈米制程，但主要适用微机电系统(MEMS)与光学组件。
还有奈米压印微影
There is also nano-imprinting lithography
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