...技术中,分子束磊晶法的主要优点是低温 (至),因此减少了自动掺杂 (autodoping),及掺杂区内的掺杂原子向外越界扩散 (out-diffusion) 的现象.但分子束磊晶法最大的优点可能是:在一个制程步骤 (抽一次真空) 内可在晶圆表面形成多层的能力.
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越界扩散
Transboundary diffusion
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