...thography’NGL），而这一技术的代表包括了极紫外光刻（EUVL）、 X射线光刻（XRL）、电子束光刻（EBL）、聚焦离子束光刻（FIBL）以及纳米压 印光刻（NlL）等。
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聚焦离子束光刻(focused ion beam lithography)
focused ion beam lithography
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