【纳米球刻蚀技术】

纳米球刻蚀技术

Nanosphere Lithography

在1995 年, Van Duyne 研究组 [7] 在自然蚀刻法 [8] 的基础上提出了纳米球刻蚀技术( nanosphere lithography , NSL) , 即将尺寸均匀的聚苯乙烯纳米球的悬浊液滴在衬底上, 形成单层或双层纳米球的自组装密排的掩膜板...

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NSL

在1995 年, Van Duyne 研究组 [7] 在自然蚀刻法 [8] 的基础上提出了纳米球刻蚀技术( nanosphere lithography , NSL) , 即将尺寸均匀的聚苯乙烯纳米球的悬浊液滴在衬底上, 形成单层或双层纳米球的自组装密排的掩膜板...

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纳米球刻蚀技术

Nanosphere etching technology

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模拟结果为用PS球刻蚀技术制备金属纳米孔阵列的实验提供了理论支持。

The simulation results provide a theoretic guide for the fabrication of metallic nano-hole array by PS sphere's etching and vacuum depositing technology.

youdao

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