人们对PLD方法进行了各种改进，如采用紫外辅助脉冲激光沉积（UVPLD）与常规PLD方法制备的Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜相比，膜厚40nm时相对介电系数从172提高到281，漏电流降低1.5倍[14]。
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紫外辅助脉冲激光沉积
Ultraviolet assisted pulsed laser deposition
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