ArF光刻离轴照明（OAI）的关键层。此外，自对准的实施浮动多晶硅栅（SAP），钨与优化的再氧化过程中，氧化物间隔层和钨的位线（BL）的具有低电阻的栅极。
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离轴照明技术 OAI
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也记住离轴照明需要填一个更复杂的灯光布局，因此通常只在肖像在演播室里。
Also keep in mind that off-axis fill lighting requires a more complex lighting arrangement, and is therefore usually reserved for portraits in a studio.
youdao
离轴照明早在1989年光刻专家就提出了离轴照明技术，并得到了很好的发展，已经得到了广泛应用。如图1所示，在采用离轴照明的曝光系统中，掩模上的照明光线都与投影物镜主光轴有一定的夹角。入射光经掩模发生衍射，左侧光源的0级，-1级衍射光与右侧光束的+1级，0级衍射光参与成像。
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