...气体分子进行CVD反应之设备 设备特性 可在更低温度下进行反应 薄膜常含有氢原子 存在离子轰击现象(Ion Bombardment), 可借此调整薄膜的内应力 台大机械/半导体制程设备概 论/气相沉积设备 20 CVD反应器– PECVD 平行板冷壁式PECVD Low dep...
基于12个网页-相关网页
离子轰击现象
Ion bombardment phenomenon
以上为机器翻译结果,长、整句建议使用 人工翻译 。
本文研究了辉光放电离子轰击钎焊时阴极溅射现象对工件表面的净化作用。
The surface cleaning action, caused by the cathode sputtering phenomenon in ion bombardment brazing in glow discharge is investigated in this paper.
youdao
应用推荐
模块上移
模块下移
不移动