包括极紫外（EUV）光刻、离子束投影光刻技术（Ion Projection Lithography, IPL）、SCALPEL（角度限制投影电子束光刻技术）以及X射线光刻技术。
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2，离子束投影光刻技术 离子束投影光刻技术（IonProjection Li thography，IPL）早期是用离子束进行 光刻胶曝光，或者通过掩模，或者使用精确聚焦的离子束连续在光刻胶上直写。
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离子束投影光刻技术
Ion beam projection lithography
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