反应离子刻蚀(reactive ion etching,RIE)是利 用一定压强下刻蚀气体在高频电场的作用下,使气 体辉光放电产生分子激励和活性基,对刻蚀物离子 轰...
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因此各种干法 刻蚀方法得到了广泛的关注和研究，其中反应离子刻蚀（ReactiveIon Etching，RIE） 是一种很重要的刻蚀方法，但与硅相比，碳化硅的RIE刻蚀速率明显偏慢，SiC的 RIE刻蚀速率只有3...
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反应离子刻蚀 Reactive-ion etching ; RIE ; RIE Etching ; RIE-Reactive Ion Etch
深反应离子刻蚀 DRIE ; Deep Reactive Ion Etching
离子刻蚀设备 ion etching equipment
离子刻蚀机 rie
反应离子刻蚀法 Reaction Ion Etch ; Reactive Ion Etching
离子刻蚀技术 DRIE ; Ion etching technology
反应离子刻蚀延迟效应 RIE LAG
等离子刻蚀 ETCH ; reactive ion etching ; RIE ; Plasma Etching
磁电管反应离子刻蚀 Magnetron Reactive Ion Etch
We choose silicon as the material of microchannel heatsink, deposite SiN coat on the microchannel and using the tecchnic of react ion etch to etch the pattern on it, and cautery it with anisotropy method.
本文选择硅做微通道热沉材料，微通道的刻蚀采用沉积氮化硅膜做掩膜，采用反应离子刻蚀方法刻蚀出微通道图形窗口，再采用各向异性的腐蚀方法完成。
参考来源 - 高功率半导体激光器微通道热沉研究·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
并且详细论述离子刻蚀的原理以及离子源的参数设计。
The theory of ion etching and the parameter of ion source designing are discussed in detail.
利用并行直写技术与感应耦合等离子刻蚀技术制作了部分二元光学元件。
Some binary optical elements were manufactured by parallel direct writing and inductive couple plasma etching technology.
通过反应离子刻蚀可以将光刻胶微透镜图形转移至这种高性能的聚合物材料上。
Pattern transfer technique is used to transfer photoresist microlens arrays into the polymer underlayer.
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