它既可作反应离子刻蚀（RIE），又可作磁增强反应离子刻蚀（MERIE），不仅可用于常规的半导体干法刻蚀，也适用于亚微米级和边沿陡直图形的刻蚀。
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磁增强反应离子刻蚀
Magnetic-enhanced reactive ion etching
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