...为溶剂，以硅烷作为主成膜剂，以氟锆酸盐和/或氟锆酸为第二种成膜剂，并添加八(氨丙基二甲基硅氧基)笼型八聚硅倍半氧烷(Q型POSS)作为膜层封闭剂和修补剂。2.
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本文还以苯基三氯硅烷为原料，逐步合成了一系列笼形硅倍半氧烷：八苯基笼形硅倍半氧烷(OPS)、八硝苯基笼形硅倍半氧烷(ONPS)、八氨苯基笼形硅倍半氧烷(OAPS)、甲基丙烯酰氯化八氨苯基笼形硅倍半氧烷(OAPS-MAC)、羧酸化八氨苯基笼形硅倍半氧烷(OAPS-AA)，其...
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聚甲基硅倍半氧烷 Polymethylsilsesquioxane
聚苯基硅倍半氧烷 PPSQ
氢硅倍半氧烷 HSQ
聚丙基硅倍半氧烷 Polypropylsilsesquioxane
聚乙烯基硅倍半氧烷 PVSQ
聚硅倍半氧烷 Polyhedral Oligomeric Silsesquioxane ; POSS
梯形聚苯基硅倍半氧烷 PPSQ
倍半硅氧烷 POSS ; Silsesquioxane ; OVS ; OCP-POSS
多面体低聚硅倍半氧烷 Polyhedral Oligomeric Silsesquioxane
介绍了聚有机硅倍半氧烷的合成方法及其在涂层材料中的应用。
In the article, the research works on the synthesis of polysilsesquioxane and its application in coatings were(reviewed).
针对国内的研究现状，指出低聚硅倍半氧烷-聚合物杂化体系研究所存在的问题。
The existing problems in the study on hybrid POSS-polymers system in our country are discussed.
本发明涉及聚硅氧烷（硅倍半氧烷）和含有所述聚硅氧烷的光致抗蚀剂的新合成方法。
The present invention relates to polysiloxane and the synthesis of photoresist containing the said polysiloxane.
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