vacuum vapor deposition method 真空蒸发法 ; 真空镀积法 ; 真空沉积法 ; 真空蒸发淀积法<冶>
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2 真空蒸发法（ Evaporation Deposition ）是采用电阻加热或感应加热或者电子束等加热法将原料蒸发淀积到基片上的一种常用的成膜方法。
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2 真空蒸发法（Evaporine Deposition）是采用电阻加热或感应加热大概电子束等加热法将原料蒸发淀积到基片上的一种常用的成膜方法。
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这种方法的合成速度比传统的真空蒸发法快10倍以上，适合工业化生产。
The production rate by using this method is 10 times or more larger than that by the conventional vapor evaporation method, so this method is suitable for industrial production of nanoparticles.
本论文对真空蒸发法和直流溅射法沉积锌膜的工艺进行了研究，结合XRD、SEM、AFM等分析手段，以探索这两种方法在制备锌膜方面的一般规律。
The techniques of depositing zinc thin film on grass substrate by vacuum evaporation and direct-current sputtering were investigated with XRD, SEM and AFM in this paper.
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