...新泽西Murray Hill分部（1979-1985）；工作包括在TCAD方面的物理和数学基础研究，以及应用电子束光刻系统（e-beam lithography）和反应性离子蚀刻（reactive-ion etching）先进器件工艺来制造次250nm晶体管的前期研究 主要荣誉：IEEE院士；瑞士和奥地利国家工...
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电子束光刻系统
Electron beam lithography system
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