当所用绝缘体上硅(Silicon-On-Insulator,SOI)材料为基于注氧隔离技术的材料时,其表面均方根粗糙度为3nm左右,硅层厚度均匀性在5%以内,而且硅膜厚...
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硅层 在 物理学 分类中 的翻译结果 --cnki翻译助手 can be tens of nanometers to several microns. 当所用绝缘体上硅(Silicon-On-Insulator,SOI)材料为基于注氧隔离技术的材料时,其表面均方根粗糙度为3nm左右,硅层厚度均匀性在5%以内,而且硅膜厚
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