用于浸没式工艺的光刻胶研究进展 - 查文献期刊 据的Rayleigh计算公式如下:W(hp)=k1λNA=k1=λnsinθ这里W(hp)为分辨率,现在一般用半节距(half pitch,hp)表示.λ为曝 推荐 收藏 [错误报告] 【更多】 同刊文档 用于浸没式工艺的光
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现在一般用半节距
Nowadays, half-pitch is generally used
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