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注入形成轻掺杂漏区

网络释义

  LDD

（5）V注入形成轻掺杂漏区（Lightly Doped Drain，LDD）NMOS，N+（P+）注入形成NMOS源漏区（PMOS源漏区），各向异性刻蚀形成栅极边墙区（Side...

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  Lightly Doped Drain

（5）V注入形成轻掺杂漏区（Lightly Doped Drain，LDD）NMOS，N+（P+）注入形成NMOS源漏区（PMOS源漏区），各向异性刻蚀形成栅极边墙区（Side...

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有道翻译

注入形成轻掺杂漏区

Light doping leakage zone is formed by injection

以上为机器翻译结果，长、整句建议使用 人工翻译 。

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- 来自原声例句
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