本文将CZ硅单晶片在Secco腐蚀液中择优腐蚀后，用光学显微镜和原子力显微镜对流动图形缺陷(flow pattern defects, FPDs)在硅片中的形态、分布及其端部的微观结构进行了仔细地观察和研究，并讨论了腐蚀时间对FPDs缺陷端部结构...
基于4个网页-相关网页
本文将CZ硅单晶片在Secco腐蚀液中择优腐蚀后，用光学显微镜和原子力显微镜对流动图形缺陷(flow pattern defects, FPDs)在硅片中的形态、分布及其端部的微观结构进行了仔细地观察和研究，并讨论了腐蚀时间对FPDs缺陷端部结构...
基于2个网页-相关网页