光刻电子束纳米道康宁电子部推出XR-1541电子束光刻胶 聚焦下一代光刻技术_我的网站 至6纳米的无掩模光刻技术能力。 可用于各种高纯度、半导体等级配方的XR-1541电子束光刻胶，是由甲基异丁基酮(methylisobutylketone, MIBK)带性溶剂中的含氢硅酸盐类(hydrogen silsesquioxane ,HSQ)树脂所构成。这些
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可用于各种高纯度、半导体等级配方的XR-1541电子束光刻剂，是由甲基异丁基酮(methylisobutylketone, MIBK)带性溶剂中的含氢硅酸..
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