为实现掺混一种常用的技术是由无杂质空位扩散（IFVD）其中的密封剂沉积的样品的表面上，然后加热到高温，以启动相互扩散过程。
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impurity-free vacancy disordering
...士论文 点 16-17 1.5 论文纲要 17-18 第2章 量子阱混杂类型 18-25 2.1 无杂质空位扩散(impurity-free vacancy disordering,IFVD) 18-20 2.2 杂质诱导扩散(impurity induced disordering,I..
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