无光罩微影(Maskless lithography)： 多年前，IBM推出了一种直写电子束微影技术，其最大的特点就是不需要光罩；不过目前直写技术仍局限在一些例如化合物半导体等的...
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但目下当今有匹大黑马跳进去──即采用电子束(electron gleiwoulm)技术为根柢的无光罩微影(Mraiseless lithography)。
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Minquire ofless lithography
但今朝有匹大黑马跳进去──即采用电子束(electron ray)技术为根蒂根基的无光罩微影(Minquire ofless lithography)。
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