栅极,栅极阵列,形栅极,半导体类技术资料-168科技网 的镂空(un-landed)现象的制造方法，该方法包括：提供一具有金属层与抗反射层形成于其上的基材；形成一旋涂式玻璃层(sog，spin on glass)于该抗反射层上；定义多条金属线，所述金属线是由蚀刻该金属层、该抗反射层与该旋涂式玻璃层完成；沉积一氧
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形成拴塞孔的方法 的镂空(un-landed)现象的制造方法，该方法包括：提供一具有金属层与抗反射层形成于其上的基材；形成一旋涂式玻璃层(SOG，spin on glass)于该抗反射层上；定义多条金属线，所述金属线是由蚀刻该金属层、该抗反射层与该旋涂式玻璃层完成；沉积一氧
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