在扫描电子束光刻（SEBL），在光束位置还没有在曝光过程中连续监测。相反，依赖于一个激光干涉仪控制阶段和二次引用。
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矢量扫描电子束光刻 vector scan electron beam lithography ; vector scan electron beam bitey
光栅扫描电子束光刻 raster scan electron beam lithography
扫描式电子束光刻 write electron beam lithography
扫描电子束光刻
Scanning electron beam lithography
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