包括分子掺杂(molecular doping)或集束离子注入(cluster ion implant)，能以高 能量制造超浅结，且能免于能源污染。Carborane (C2B10H12，CBH)离子即为上述分子之一，且已被业 界广泛选用。
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或集束离子注入
Or cluster ion implantation
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